光刻胶是电子领域微细图形加工的关键性材料，被誉为半导体材料皇冠上的明珠，在半导体、新型显示、印制电路板等泛半导体领域的生产中具有重要作用。随着全球对半导体技术依赖程度的加深，光刻胶的重要性愈加凸显。目前我国光刻产业的发展面临着诸多挑战。在光刻胶领域，国内高端光刻胶自给率低，研发和生产技术与国际先进水平有差距，产品性能和质量难以满足高端芯片制造需求。湿电子化学品方面，部分高纯度、特殊配方产品依赖进口，供应受限。掩模版的高精度制造技术难度大，高端掩模版原料主要依赖进口，供应受制于人，其快速修复和更新技术有待提升。光刻机更是被国外垄断，高端光刻机如EUV光刻机难以获得，国内光刻机企业在技术水平、制造精度、光源系统等方面与国际先进水平存在较大差距，成为制约我国半导体产业发展的“卡脖子”环节。

为推动国内高端光刻胶技术创新，加快核心技术突破与产业化应用，同时加强下游需求应用与科研、产业企业的协同研发、技术交流。2026深圳国际光刻胶产业技术展览会将围绕集成电路、新型显示、PCB领域高性能光刻胶以及光刻胶专用树脂、光引发剂、颜料等原料技术与设备全方面展示和产学研用技术交流。是国内最主要的光刻胶领域行业盛会，一年一届。大会已成为推动国内高端光刻胶技术创新、加快核心技术突破与产业化应用、加强产学研用深度融合的重要平台，在行业产生了广泛的影响力。

同期将召开多场技术研讨会及活动，邀请国内外专家与参会代表前来互动交流，探讨行业发展趋势，分享各自取得的经验成果。热忱欢迎国内外的光刻胶产业技术应用企业及其相关行业人士前来参观与交流！